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  • 氧化擴散爐OXF150 產(chǎn)品型號:OXF150
    氧化擴散爐
詳細內(nèi)容

1、尺寸:6英寸圓片,向下兼容4、2、1英寸;

2、產(chǎn)量:1~ 20 /批;

3、工藝類型:干氧(O2)→濕氧(H2O蒸汽)→干氧工藝;

4、溫度控制范圍:500℃~1100℃;

5、溫控區(qū)長度:200mm;

6、溫控精度:≤±1℃,800℃以上≤±1℃(爐管方向);

7、爐體升降溫速率:最大升溫速率12/分鐘;

8、氣體管路:流量計控制工藝氣體流量,保護氣體由浮子流量計控制;

9、推舟方式:采用懸臂桿,全自動送片機構(gòu);

10、溫控方式:具有全自動升降溫及恒溫功能;

11、保護功能:具有超溫、熱短路、流量偏差、排風(fēng)、冷卻水缺液報警等保護功能;

12、工藝控制:工藝過程由工控計算機全自動控制,存儲不少于 50條工藝曲線;

13、電源:380VAC/50Hz,25KW;

14、重量:800Kg;

15、機器外形尺寸:W3000mm×H1700mm×D1000mm。

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