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- 集成電路及微電子制造
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氧化擴散爐OXF150
產(chǎn)品型號:OXF150
氧化擴散爐
- 詳細內(nèi)容
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1、尺寸:6英寸圓片,向下兼容4、2、1英寸;
2、產(chǎn)量:1~ 20 片/批;
3、工藝類型:干氧(O2)→濕氧(H2O蒸汽)→干氧工藝;
4、溫度控制范圍:500℃~1100℃;
5、溫控區(qū)長度:200mm;
6、溫控精度:≤±1℃,800℃以上≤±1℃(爐管方向);
7、爐體升降溫速率:最大升溫速率12℃/分鐘;
8、氣體管路:流量計控制工藝氣體流量,保護氣體由浮子流量計控制;
9、推舟方式:采用懸臂桿,全自動送片機構(gòu);
10、溫控方式:具有全自動升降溫及恒溫功能;
11、保護功能:具有超溫、熱短路、流量偏差、排風(fēng)、冷卻水缺液報警等保護功能;
12、工藝控制:工藝過程由工控計算機全自動控制,存儲不少于 50條工藝曲線;
13、電源:380VAC/50Hz,25KW;
14、重量:800Kg;
15、機器外形尺寸:W3000mm×H1700mm×D1000mm。
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