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基本參數(shù)

1、可鍍尺寸：6吋及以下；

2、樣品臺旋轉(zhuǎn)：自轉(zhuǎn)速度0～20轉(zhuǎn)/分，可加熱；

3、靶基距：100mm 至 150mm，調(diào)節(jié)量為50mm；

4、操作方式：全自動(dòng)控制方式；

5、系統(tǒng)總控：人機(jī)界面及控制程序；

6、電源：220VAC/50Hz，8KW；

7、機(jī)器重量：630kg；

8、機(jī)器尺寸: D810mm× W1820mm×H1850mm。

磁控電源及濺射鍍膜室

1、磁控靶：≥3英寸永磁靶3套，靶頭角度0～25°可調(diào)，配置靶擋板；

2、靶工作模式：單靶濺射，3靶共濺，3靶交替濺射；

3、電源：帶3臺直流電源1KW、RF射頻電源0.6KW、負(fù) 500V偏壓電源；

4、真空室：雙真空室結(jié)構(gòu)，圓柱形304不銹鋼，前開門D 型腔體；伺服電機(jī)電缸驅(qū)動(dòng)送樣系統(tǒng)；

5、真空度：主真空室真空度≥3×10-5 Pa、副真空室真空度 ≥1×10-4 pa；

6、抽氣時(shí)間：大氣壓~3*10-4 Pa≤40min；

7、恢復(fù)工作真空時(shí)間：≤35分鐘左右（新設(shè)備充干氮?dú)猓?

8、漏率：關(guān)機(jī)12小時(shí)真空度≤10Pa。

測量系統(tǒng)

1、真空計(jì)：數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)1套，測量低真空和高真空；

2、帶四路氣體流量控制器及顯示儀。

冷卻系統(tǒng)

1、配備冷卻水循環(huán)系統(tǒng)：內(nèi)部用不銹鋼水槽，水冷機(jī)設(shè)有水流報(bào)警系統(tǒng)；

2、保護(hù)系統(tǒng)：對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)。